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固有技術である表面倣い式微粉体供給技術を利用した供給装置はＡＭ型からＡＭＮ型へと進化して来ましたが、本技術の本質は微量供給にこそあり、この度、その真価を問う機会を得て新設計の本体を製作（写真）しました。 |
| (2007.5.24) |
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| 新・微粉体供給装置（ＡＭＮシリーズ）発売 |
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粒径１０ミクロン以下の粉体を定量供給可能な唯一の実用粉体供給装置としてこの十年重用されて来ましたＡＭフィーダーの後継機種（写真）。従来型の供給精度向上と計測・データ処理機能を大幅に強化、万能フィーダー（ＡllＭighty feeder）として名実ともにナンバー・ワンを目指します。 |
| (2006.10.13) |
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| チタン溶解実験用プラズマ発生装置製作 |
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高純度化により金属の特性を飛躍的に向上させることを目論見このところプラズマ溶解法の出番が増えていますが、本装置もその一環、国内チタンメーカーの依頼で製作したものです。５０KW非移行型プラズマトーチ（写真）が用いられています。 |
| (2006.9.20) |
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| ガス加熱用プラズマ発生装置納入 |
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注目される溶射プロセス“コールドスプレー法”は使用する高圧ガスを加熱することでより良い皮膜が出来、目下、様々な高圧ガス加熱手段が試みられています。プラズマガス加熱法もその一つで、某スチールメーカーに製作、納入しました（写真）。
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| (2006.8.29) |
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| 誘電体バリア放電型プラズマトーチ製作 |
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テクノサーブのプラズマトーチは、これまで、高温熱源発生用として利用されるケースが圧倒的に多かったのですが、このタイプは、化学反応を強力にアシストするラジカル粒子生成を目的としています。東北大学流体科学研究所の依頼と指導で実現しました。 |
| (2006.7.4) |
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| 太陽電池シリコン精製用プラズマ発生装置製作 |
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過去には、太陽電池用シリコン原材料の不足を半導体用スクラップシリコン精製によって解消する研究が、某製鉄メーカーを拠点に強力に進められましたが、実施直前、断念した経緯があります。それから十年、テクノサーブ製プラズマ発生装置を利用した精製プロセスの利点が見直され、再び、陽の目を見ることになりました。 |
| (2005.9.30) |
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東北大学多元物質研究所の指導の下高純度鉄溶解プロセスの研究がS社によって実施されその高純度鉄溶解用プラズマ発生装置製作を小社が担当、このプロジェクトのため新設計、製作された移行式プラズマトーチは不純物のレベルが従来型に比べ格段に少ないと高評価を得ています。
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| (2004.2.20) |
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粒径１０ミクロン以下の粉体を定量供給可能な原理は、目下、表面倣い式と呼ばれるテクノサーブ社オリジナル以外見当たりません。その原理を採用したAMフィーダーがこのところ各方面に相次ぎ納入されています。社名は控えますがその代表的なところを以下に記しましょう。
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| ’０２年 |
２月 |
金属メーカー |
重金属球状粉の製造 |
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３月 |
産業技術研究所（中部） |
生体適合表面処理の研究 |
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３月 |
セラミックスメーカー |
酸化物セラミックス微粉体の溶射 |
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９月 |
センサーメーカー |
高付加価値金属微粉体の溶射 |
| ’０３年 |
４月 |
蛍光品メーカー |
超微粒子の製造 |
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８月 |
鉄鋼メーカー |
製鋼プロセスの研究 |
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１０月 |
溶射加工会社 |
酸化物セラミックスの溶射 |
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| (2003.10.20) |
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東北大学流体科学研究所の要請で特殊実験目的用に従来型非移行式プラズマトーチの限界に迫るΦ15mm小口径トーチ製作に挑戦、この度無事完成し納入を済ませました。この高度トーチ製作技術は、近い将来、様々な分野に応用展開される見通しです。
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| (2003.4.21) |
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先月、初の３電極マイクロプラズマスプレーシステムが神奈川県のＹ社に納入されました。本装置は、２年前、広島工業大学に納入された６０ｋＷ級３電極型溶射システムをベースにし、高付加価値金属をターゲットにトーチの小型化を極限まで進め、１５ｋＷ級システムとしてまとめ上げたものです。
Ｙ社では、本装置を、ＰＶＤなどの薄膜プロセスによって作製された素子上に実装時に必要な十分な大きさの導体を形成するため、数ミクロンの白金微粉体を複数工程を経ないで直接、ワンショット厚膜形成する手段として導入に踏み切ったものです。今後、数ヶ月のテストランを重ね、実生産に向けられものと思われます。
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| （2002.10.1） |
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昨年秋頃からマイクロプラズマスプレーシステムに関わる問い合わせが急増しています。このシステムは、嘗て、小社設立母体となった永田鉄工・プラズマ技術センター（‘97年2月プラズマ事業から撤退、廃止）から同一製品名で発売されたことがあり、成膜プロセスとしては、粗いが圧倒的な速度をもつ溶射法と緻密だが遅い薄膜製造プロセス（ＰＶＤやＣＶＤ）の中間に位置づけらる成膜装置で、膜厚数ミクロンから数十ミクロンの金属膜形成領域への適用を意図したものでありました（溶射技術、ｖｏｌ.11-ＮＯ.2/1992年、産報出版）。
本システムは、端的に言えば、粒径数ミクロンの微粉体を雰囲気制御下でプラズマ溶射するもので、当時、核になる要素技術の微粉体供給装置を保有すれば、酸化物が出来ない、高価な金属微粉体の歩留まりが悪い、など、課題は少なくありませんでしたがとりあえず意図する方向でのトライは可能でした。
あれから10年、小社の現在の主力製品、微粉体から通常粉体まで粉を選ばないで使える“表面倣い式粉体供給装置（ＡＭフィーダー）”と原料粉体を軸心に注入することで原料散逸の抑制とパターンを絞ることを狙った“3電極型マイクロプラズマトーチ”２大要素技術の保有、そして、その採用によって、本システムは大幅にグレードアップ、リバイバル製品ながら、新マイクロプラズマスプレーシステムとして再登場することになったわけです。昨今の難しい経済局面の中にあり、ナノテクノロジー研究開発の時流と相俟って、その技術が、あらためて見直され注目を浴びています。
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| （2002.1.7） |
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先にご案内した新型プラズマ溶射システム（写真）は2000年３月１７日広島工業大学の新設第２ハイテク棟プラズマ溶射実験室に納入設置されました。
本装置は５月一杯オペレーター教育を兼ねた試運転・調整を行い引渡しを終える予定です。
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| （2000.5） |
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既に本欄でその発売をご案内していた新型高エネルギー、高溶融効率溶射用プラズマトーチS-SPGシリーズは、その後、弊社雰囲気制御溶射システムに導入され、この度、そのシステム一式を関西の私立大学から受注、目下３月納品を目途に急ピッチで製作が進んでいます。
本システムにはこれまでのプラズマ溶射システムには無い大きな特徴が二つあります。第一は、原料粉体をエネルギー効率を犠牲にせずプラズマの中心軸に注入し高溶融効率を実現していること、そして第二は、微粉体を使えることです。
第一の特徴は、従来の３電極型プラズマトーチの電極配置の無理がもたらす大きな熱損失を、弊社のSPG型ベストセラートーチを巧妙に配置する事によってこれまで二律背反になっていた溶融効率とエネルギー効率向上を同時に実現することで生まれました。
３電極型プラズマトーチそのものは原料粉体注入におけるその対称性がもたらす効果に期待しこれまで各方面で試みられており目新しいものではありません。その方式を大別すれば、独立した三個の陰極に一個の共有する陽極を配置する阪大方式と独立した三個の陰極に各々独立した陽極を配置する独立三極式とでも呼ぶ方式に分けられるでしょう。後者の方式は、さらに、超高温材料研究センターに配置されている（永田鉄工製）ような単に独立した３本のプラズマトーチを１２０度毎に可能な限り接近配置しプラズマジェットを一点で会合させる方式と一つのトーチの中に３組の電極を組み込んだAXIALⅢ（カナダ製で国内ではメテックジャパン社が販売）と呼ばれる方式に分かれます。そして、これらの方式の中では、歴史的に一番新しいAXIALⅢが溶融効率を飛躍的に向上させた点で勝るでしょう。この方式は高溶融効率を実現するため粉体を３電極の中心軸に注入していますが、独立した３電極を無理なく配置する（電極軸平行型配置）点を優先したためプラズマ通路が長くなり原料の注入ポイントまでの熱損失が通常のトーチに比べ大きくなっているものと思われます。
一方、S-SPG型プラズマトーチはプラズマ通路を最短にできる電極軸交叉型配置を、これまで独自のプラズマトーチ開発によって培われたノウハウをこの一点に集中して考えだし、この点をクリアーしています。
第二の特徴は、既にAMシリーズと呼ぶパウダーフィーダーの製品化で実証された粉体を選ばぬ粉体供給技術を保有する弊社にとって、微粉体を効率よく溶融加速出来るプラズマトーチが登場すれば容易に到達可能な目標でありました。S-SPG型プラズマトーチがまさにそれであります。
本システムの他にない際だった特徴を上げればこの二点に集約されます。この二大特徴が、近い将来、新規な皮膜研究の強力な武器として働くことは確実でしょう。
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| (2000.1.1) |
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